Machine de nettoyage plasma sous vide en ligne

VPS - rf120 Équipement de nettoyage plasma sous videIntroduction:

L'équipement de nettoyage au plasma sous vide VPS - rf120 se compose principalement de cavité à vide, d'alimentation au plasma haute fréquence, de système de production et de mesure de vide, de système de gaz de processus, de système de contrôle et d'autres parties. Le principe de base de fonctionnement est d'utiliser une pompe à vide pour effectuer l'aspiration de la Chambre de travail à un certain degré de vide, après l'entrée du gaz de processus, sous l'action d'un générateur à haute fréquence, un champ électrique alternatif à haute fréquence est formé entre l'anode et la cathode, le gaz est ionisé pour former un plasma. Lorsque le gaz atteint l'état plasma, les molécules gazeuses se fissurent en de nombreuses particules hautement actives. Le mécanisme du nettoyage au plasma consiste précisément à s'appuyer sur « l'action d'activation» d'une substance à « l'état plasma» dans le but d'éliminer les taches de surface d'un objet ou d'améliorer l'activité de surface.

VPS - rf120 Équipement de nettoyage plasma sous videCaractéristiques:Technologie de décharge euro - américaine, structure de décharge professionnelle, distribution uniforme de plasma de simulation scientifique, effet de traitement uniforme

Application du produit: élimination de la matière organique de surface, nettoyage de surface à l'huile, amélioration de l'hydrophilie de surface, amélioration de l'adhérence de surface, amélioration de l'adhérence de surface, amélioration des propriétés de liaison

Paramètres du produit: